所謂常規(guī)真空工藝系指沒(méi)有特殊請(qǐng)求的真空工藝過(guò)程，這類真空安裝（設(shè)備）對(duì)真空衛(wèi)生的請(qǐng)求：

（1）但凡處于真空中的真空設(shè)備零件，都請(qǐng)求無(wú)積存的污染源，外表無(wú)塵埃，無(wú)鐵屑、無(wú)銹蝕；

（2 ）真空設(shè)備的真空室外表要潤(rùn)滑、無(wú)松軟組織和氣孔、無(wú)內(nèi)焊縫等影響真空的缺陷；

（3 ）高真空設(shè)備中，真空室內(nèi)的運(yùn)動(dòng)部件不得用機(jī)油作光滑劑，要用飽和蒸氣壓低的擴(kuò)散泵油、硅油作光滑劑；法蘭、察看窗的密封部件要涂以高真空油脂；

（4）真空設(shè)備普通應(yīng)在溫度為15～30℃，相對(duì)濕度不高于70%的清潔空氣流通的環(huán)境中工作，冷卻水進(jìn)水溫度不高于25 ℃。

電真空工藝對(duì)環(huán)境的請(qǐng)求

電真空構(gòu)造資料除具有良好的機(jī)械性能和加工性能外，還要滿足其他性能的請(qǐng)求，即容易除氣、低的飽和蒸氣壓、一定的化學(xué)穩(wěn)

定性、一定的純度和清潔度、適宜的輻射才能等。所以電真空工藝具有特殊性，對(duì)清潔處置請(qǐng)求是極為嚴(yán)厲的，應(yīng)最大限度肅清

或減少零件的污染。

真空鍍膜工藝對(duì)環(huán)境的請(qǐng)求

真空鍍膜工藝襯底（基片）外表的清潔處置很重要，基片進(jìn)入鍍膜室前均應(yīng)停止認(rèn)真的鍍前清潔處置，到達(dá)工件去油、去污和脫

水的目的?；獗砦廴緛?lái)自零件在加工、傳輸、包裝過(guò)程所粘附的各種粉塵、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物；零件外表在濕潤(rùn)空氣

中生成的氧化膜；零件外表吸收和吸附的氣體。這些污物根本上均可采用去油或化學(xué)清洗辦法將其去掉。