所謂常規(guī)真空工藝系指沒有特殊請求的真空工藝過程，這類真空安裝（設(shè)備）對真空衛(wèi)生的請求：

（1）但凡處于真空中的真空設(shè)備零件，都請求無積存的污染源，外表無塵埃，無鐵屑、無銹蝕；

（2 ）真空設(shè)備的真空室外表要潤滑、無松軟組織和氣孔、無內(nèi)焊縫等影響真空的缺陷；

（3 ）高真空設(shè)備中，真空室內(nèi)的運動部件不得用機油作光滑劑，要用飽和蒸氣壓低的擴散泵油、硅油作光滑劑；法蘭、察看窗的密封部件要涂以高真空油脂；

（4）真空設(shè)備普通應(yīng)在溫度為15～30℃，相對濕度不高于70%的清潔空氣流通的環(huán)境中工作，冷卻水進水溫度不高于25 ℃。

電真空工藝對環(huán)境的請求

電真空構(gòu)造資料除具有良好的機械性能和加工性能外，還要滿足其他性能的請求，即容易除氣、低的飽和蒸氣壓、一定的化學(xué)穩(wěn)

定性、一定的純度和清潔度、適宜的輻射才能等。所以電真空工藝具有特殊性，對清潔處置請求是極為嚴厲的，應(yīng)最大限度肅清

或減少零件的污染。

真空鍍膜工藝對環(huán)境的請求

真空鍍膜工藝襯底（基片）外表的清潔處置很重要，基片進入鍍膜室前均應(yīng)停止認真的鍍前清潔處置，到達工件去油、去污和脫

水的目的。基片外表污染來自零件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物；零件外表在濕潤空氣

中生成的氧化膜；零件外表吸收和吸附的氣體。這些污物根本上均可采用去油或化學(xué)清洗辦法將其去掉。